Вольфрамовый лист 4х100х2000 мм ВА в Астрахани

Коррозии листа ВА в атмосфере сероводорода способствуют повышенные температуры (свыше 700-800°С) и наличие влаги. В этих условиях вольфрам может реагировать с сероводородом, образуя сульфиды, что приводит к поверхностной деградации.

Вольфрамовый лист ВД проявляет хорошую химическую стойкость к воздействию концентрированной соляной кислоты при 80°С. Вольфрам инертен к большинству неорганических кислот, не вступая в значительную реакцию и сохраняя свои свойства в данной агрессивной среде.

Вольфрамовый лист встречается в экспериментальных установках, требующих сверхвысоких температур, таких как токамаки (для футеровки первой стенки), высокотемпературные вакуумные печи для синтеза материалов и установки для исследования плазмы.

Лист ВД обладает высокой устойчивостью к расплавленному индию при 250°С. Низкая взаимная растворимость вольфрама и индия обеспечивает минимальное взаимодействие и сохранение целостности вольфрамового листа в данной металлической среде.

Для защиты вольфрамового листа от окисления при 900°С на воздухе необходима изоляция от кислородной среды. Применяют защитные газовые атмосферы (аргон, водород), вакуум или нанесение защитных покрытий, например, дисилицида молибдена.

Хрупкость вольфрамового листа толщиной 2.0 мм при изгибе при комнатной температуре приводит к его растрескиванию или разрушению. Для формовки или изгиба требуется предварительный нагрев до температуры выше хрупко-вязкого перехода (обычно > 400°С).

Преимущества использования листа ВА в качестве катодов заключаются в его высокой температуре плавления, низкой скорости испарения и стабильной термоэлектронной эмиссии при высоких температурах. Это обеспечивает долгий срок службы катодов и стабильную работу вакуумных приборов.