Вольфрамовый лист 9х220х2000 мм В-МП в Астрахани

Выбор листа ВА для термоизоляционных барьеров в вакуумных печах определяется его высокой температурой плавления, низким давлением паров и отличными отражательными свойствами для ИК-излучения. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию и минимизирует теплопотери.

В высокотехнологичном прототипировании вольфрамовый лист используется для создания функциональных элементов, требующих высокой прочности и стабильности при экстремальных температурах. Это могут быть микронагреватели для датчиков, прототипы компонентов термоядерных реакторов или сверхтонкие мембраны.

Коррозии листа ВА в атмосфере сероводорода способствуют повышенные температуры (свыше 700-800°С) и наличие влаги. В этих условиях вольфрам может реагировать с сероводородом, образуя сульфиды, что приводит к поверхностной деградации.

Стойкость вольфрамового листа к аммиачной атмосфере при 1500°С улучшается при использовании сплавов, где присутствие рения (например, ВР-20) стабилизирует структуру. Это снижает склонность к образованию нитридов вольфрама, хотя полное отсутствие реакции сложно достичь.

Для длительной работы листа ВД в инертной среде, например, аргоне или водороде, оптимальны температуры до 2500°С. В этих условиях вольфрам сохраняет свои механические свойства, не подвергаясь значительному окислению или испарению.

При резке вольфрамового листа толщиной 0.07 мм необходимы меры предосторожности из-за его хрупкости. Рекомендуется использовать острые режущие инструменты, лазерную или гидроабразивную резку. Важно избегать изгибов и ударных нагрузок, которые могут привести к растрескиванию.

Выгода использования вольфрамового листа для экранов высокотемпературных печей заключается в его высокой температуре плавления, низком давлении паров и отличных отражательных свойствах. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию, минимизирует теплопотери и повышает энергоэффективность.